LODAS - AI12设备在半导体检测领域表现卓越。它运用列真公司拥有日本专利权的激光检测技术，能够同时探测收集激光的反射光、透射光以及共聚焦。
该设备可一次性完成对第三代半导体SiC等材料表面、背面和内部缺陷的检查，最小可探测至100纳米的细微缺陷。其主要应用于半导体光罩石英玻璃表面、内部、背面的缺陷检查。
在检测SiC、GaN发挥重要作用。对12inch的Glass Wafer，LODAS - AI12能精准检查其表面和背面的颗粒、内部缺陷等。
此外，列真公司还为该设备提供设备安装后的性能维持服务以及消耗品免费诊断服务，为设备的稳定运行和长期使用提供有力保障。
LODAS-LI设备来自列真株式会社，是一款平板显示器光刻掩模缺陷检测设备，在半导体制造中至关重要。光刻掩模是平板显示器制造光刻工艺的关键部件，其质量直接影响显示面板电路图案或线的形成，若有缺陷，会致使后续生产的半成品出现问题。
该设备技术先进，运用激光扫描技术，能同时采集反射光、透射光和共聚焦光信号，可全面检测光刻掩模表面、内部及背面缺陷，微小至0.3微米的缺陷也无所遁形。例如在检测平板显示器光刻掩模的细微划痕、内部杂质等缺陷时表现出色。
该设备用于平板显示器光掩模检测，对FPD表面、内部、背面的缺陷检查。在实际生产中，可有效提升产品质量与生产效率，降低废品率，十年来，该设备在实际生产中持续稳定运行，性能可靠，为平板显示器制造企业提供高精度检测解决方案 。
LODAS-PM5 颗粒检测仪，专为精准检测颗粒而生。其核心运用先进激光传感技术，能对各类微小颗粒进行高效探测。在检测精度上表现卓越，可精准识别极细微颗粒，最小灵敏度达 0.3微米，为对颗粒检测精度要求严苛的企业提供可靠数据。
该检测仪既能实时监测半导体制造中异物颗粒，又能在生产环节前后检查晶圆；还可以对光掩模基板表面，通过图像对比实时监控颗粒的增减及异物和异常情况，满足不同的需求。无论是实验室的严谨检测，还是工业现场复杂环境下的实地监测，LODAS-PM5 都能稳定运行。
在半导体行业中，用于晶圆、光罩等的缺陷检测，助力提升产品良品率。
LODAS-BI8 光掩模空白基板缺陷检测设备，是一款专注于光掩模原版的异物检测与缺陷检查的高精度仪器设备。它能快速、精准地识别光掩模空白基板上的各类缺陷，像划痕、颗粒、凹陷、气泡以及瑕疵等。这些缺陷若未被发现，在光刻环节会被放大并转移到晶圆上，致使器件性能下滑，甚至失效。
该设备运用先进光学成像技术，配合高分辨率传感器，对基板表面进行全面扫描。当光线照射到基板，遇到缺陷时，反射或散射光的特征会改变，传感器捕捉到这些变化，传输给图像处理系统分析，进而确定缺陷大小和类型。
LODAS-BI8 检测精度可达微米级别，可满足不同工艺需求。检测效率高，能在短时间内完成基板检测，还具备智能化分析功能，运用机器学习和大数据技术，自动分类、评估缺陷严重性，为后续处理提供参考。在掩模制造工艺质量控制、使用前检查及清洗后复查等场景，它都能确保光掩模空白基板质量，提升生产良率与产品可靠性 。