描述

光掩模原版的缺陷检测设备

分类:半导体 | 型号:LODAS-DOA

LODAS-DOA 产品图

可同时检测掩模基板的正反面以及内部缺陷,采用双光学轴专用激光进行缺陷检测,由一个光学轴进行表面的检测,再由另一个光学轴进行内部和背面的检测,过去内部缺陷(气泡)主要依赖目视检测,通过 DOA 现在可以进行定量缺陷检测。

标签:掩模基板检测、正反面及内部缺陷、双光学轴

尺寸:宽 1,780×长 1,130×高 1,906(毫米)约 900 公斤

检测规格:×5 倍物镜,※同样适配×10 倍物镜。关于详细规格,欢迎垂询。

项目 规格 备注
检出灵敏度 表面:0.15 微米 PDM,内部:3 微米 PDM(1.5 微米分辨率) ×5 倍物镜
缺陷检查面精度 0.2 微米 PDM(最小分辨率) DCM、×20 倍物镜
检查掩模的尺寸 620mm mask
检测时长(1 片) 20 片/每小时

产品特点

  • 光掩模原版的生产检测、工艺评估
  • 通过单片测试,同时检测表面以及内部缺陷
  • 采用微分干涉光显微镜,进行图形分析辅助形状
  • 检测对象:620 光掩模原版
  • 检测项目:表面的划痕、微孔洞起、划痕、内部气泡